FprEN 62047-25:2016-06

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Halbleiterbauelemente – Bauelemente der Mikrosystemtechnik – Teil 25: Siliziumbasierte MEMS-

Herstellungstechnologie – Messverfahren zur Zug-Druck- und Scherfestigkeit gebondeter Flächen im Mikrometerbereich

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24.06.2016 Historisch

47F/249/FDIS:2016-06

Halbleiterbauelemente – Bauelemente der Mikrosystemtechnik – Teil 25: Siliziumbasierte MEMS-Herstellungstechnologie – Messverfahren zur Zug-Druck- und Scherfestigkeit gebondeter Flächen im Mikrometerbereich

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05.06.2015 Historisch

FprEN 62047-25:2015-06

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