IEC 62047-25:2016-08
Teil 25: Siliziumbasierte MEMS-Herstellungstechnologie – Messverfahren zur Zug-Druck- und Scherfestigkeit gebondeter Flächen im Mikrometerbereich
Teil 25: Siliziumbasierte MEMS-Herstellungstechnologie – Messverfahren zur Zug-Druck- und Scherfestigkeit gebondeter Flächen im Mikrometerbereich
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