E DIN EN 62047-26:2014-05

Halbleiterbauelemente -

Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 26: Beschreibung und Messverfahren für Mikro-Rillen und Nadelstrukturen (IEC 47F/178/CD:2013)

In diesem Teil der Normenreihe DIN EN 62047 zu Bauteilen der Mikrosystemtechnik sind Begriffe und Verfahren zum Beschreiben der Querschnittsgeometrien von Rillenstrukturen und Nadelstrukturen im Mikrometerbereich festgelegt. Rillenstrukturen, für die diese Norm anwendbar ist, sind Rillen mit einer Tiefe von 1 µm bis 100 µm sowie Rillen/Steg-Strukturen mit Breiten von jeweils 5 µm bis 150 µm und einem Aspektverhältnis von 0,0067 bis 20. Diese Norm ist für Rillenstrukturen mit rechtwinkligem Rillenprofil im Querschnitt anwendbar.
Die in dieser Norm angegebenen Nadelstrukturen sind aufragende Strukturen mit einem spitzförmigen Ende, das aus drei oder vier Flächen geformt wird, und die auf einem planaren Substrat symmetrisch in der vertikalen Ebene gebildet werden. Die Norm ist für Nadelstrukturen mit einer Höhe, horizontalen und vertikalen Breite von 2 µm oder mehr sowie Abmessungen, die in einen Würfel mit 100 µm Kantenlänge passen, anwendbar.
Im informativen Anhang A sind Beispiele zum Messen von Geometrien der Rillen- und Nadelstrukturen im Mikrometerbereich beschrieben. Es sind die Messprinzipien, Präparationsverfahren für die Proben und die Messdurchführung in Bezug auf die Geometrie der Strukturen zusammenfassend beschrieben, indem ein oder auch mehrere charakteristische Beispiele für die Geometriemessung von Rillen- und Nadelstrukturen verwendet werden.
Der Entwurf enthält eine noch nicht autoriserte Übersetzung des IEC-Entwurfsdokuments 47F/178/CD, das vom IEC/SC 47F "Micro-electromechanical systems", sowie das englischsprachige IEC-Dokument, um eventuelle Unstimmigkeiten in der Übersetzung klarzustellen.
Zuständig ist das DKE/K 631 "Halbleiterbauelemente" der DKE Deutsche Kommission Elektrotechnik Elektronik Informationstechnik im DIN und VDE.