Künstliche Gitter spielen sowohl bei der Produktion von nanoskaligen Strukturen als auch bei der Charakterisierung von Nano-Objekten eine wichtige Rolle. Ein Anwendungsgebiet ist die Massenproduktion von integrierten Halbleiterschaltungen mittels Lithographietechnik. Auch bei anderen Produktionsprozessen wird eine hochpräzise nanoskalige Positionierung mit Hilfe von künstlichen Gittern benötigt. Ein weiteres Anwendungsgebiet für künstliche Gitter in der Nanotechnologie ist die Nutzung als Kalibrierstandards für hochauflösende Mikroskope wie SPM, SEM und TEM zur Charakterisierung von nanoskaligen Strukturen.
Das vorliegende Dokument spezifiziert eine generische Terminologie für die globalen und lokalen Qualitätsparameter von künstlichen Gittern, die als Abweichungen von den nominalen Positionen der Gitterelemente zu sehen sind. Das Dokument konzentriert sich auf die Spezifikation von Qualitätsparametern (von künstlichen Gittern), ausgedrückt als Abweichung von den nominalen Positionen der Gittermerkmale, und es enthält Leitlinien für die Anwendung verschiedener Kategorien von Mess- und Evaluierungsmethoden für die Kalibrierung und Charakterisierung von Gittern. Es unterstützt damit die Qualitätssicherung in der Produktion und die Anwendung von künstlichen Gittern in den verschiedenen Anwendungsgebieten der Nanotechnologie. Die Spezifikationen und beschriebenen Methoden sind universell für eine Vielzahl von verschiedenen Gitterarten anwendbar, jedoch liegt der Fokus auf 1D- und 2D-Gittern.
Zuständig ist das K 141 „Nanotechnologie“ der DKE Deutsche Kommission Elektrotechnik Elektronik Informationstechnik im DIN und VDE.